HICVの一次側の圧力変動についてはバルブが自力(セルフ)で制御(減圧制御)します。二次側の圧力は設定エアー圧により設定できますので、今までの開度コントロールをするバルブ、パルスダンパーでは不可能であった供給圧力変動条件下での定流量制御を可能にしました。
HICVは2枚のPTFEダイアフラムで接液部を隔離しています。これにより摺動部が無く、スプリングが接液しない構造を可能にしました。

構造　動作原理について

INより入った流体は下側のチャンバーからバルブ中心のオリフィスを通り、上側の調圧チャンバーに入り右側のOUTから出てきます。上下チャンバーはダイアフラムにて外部と隔離されており、ダイアフラムとシャフトは連結されています。

圧力の調節は設定エアーの圧力と調圧チャンバー内の流体圧力がダイアフラムＡを介してバランスすることにより行っています。一次圧が上昇して、調圧チャンバーの流体圧力が設定エアー圧に対して高くなると、力がダイアフラムを上に押す方向に作用します。それにより、シャフトが上に移動して流路を絞り、調圧チャンバー内の流体圧力を下げます。逆に調圧チャンバーの圧力が設定エアー圧に対して下がるとシャフトが下に移動して流路を開きます。HICVは常に圧力の平衡状態を維持するようにシャフトが上下し、オリフィスの開度を調節して調圧チャンバー内の圧力(二次側の圧力)を一定に制御します(セルフコントロール)。

構造上、HICVの二次側に負荷(抵抗)が無い場合、調圧チャンバー内の流体圧力が低くなり、ダイアフラムＡは下に押され、HICVは全開状態となり、制御できない状態となります。また、二次側の圧力は設定エアー圧より低くなります。

使用例

■手動で設定エアー圧を調節する場合ポンプの脈動を取り安定供給するためにポンプの二次側にHICVを設置します。HICVを設置することにより一次側圧力が変動しても二次側圧力が一定となり二次側負荷が一定の場合は流量も一定になります。
エアーの供給には精密レギュレーターをご使用いただくことをお奨めします。

設定エアー圧の変動が圧力、流量の変動になります。エアー配管に圧力計、流量計を設置していただき、調節の際には1次側圧力、設定エアー圧がHICVのスペックを超えないよう注意しながら流量計などを用いて設定します。

*ポンプ選定時の注意
HICVの2次側圧力＋0.05MPaの供給圧力が必要です。ポンプのフローカーブをご確認の上選定してください。必要であればダンパーなどをHICVの1次側に設置してください。

■真空レギュレーターを用いて制御する場合

電空レギュレーターを用いることによりアナログ出力機器にて圧力、流量を設定することが可能です。センサー、調節計を使えばフィードバック制御も可能です。
より応答の速いフィードバック制御を求められる場合は電空変換機をご使用ください。
フィードバック制御時に設定エアー圧がHICVのスペックを超えないよう注意してください。

≪従来のフィードバック制御との相違点≫
従来のフィードバック制御方式は、流量をバルブ開度を調節することによって制御しています。そのため一次側の圧力変動が早いと計測から調節までの制御遅れで、逆に変化を増幅させてしまう危険性があります(ハンチング、サイクリング)。
HICVでのフィードバック制御の場合、瞬間的な圧力変動はHICVで取り除き、更に流量計で計測した結果に基づき補正をかけ、流量を一定しにするため、高速で安定した制御が可能です。

*流体の粘度変化や、沸騰、気体の混入および、発生が起こると制御に影響が出ますので注意してください。